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水处理超纯水EDI常见问题及解决措施
来源: | 作者:源洋水处理设备 | 发布时间: 2023-04-12 | 283 次浏览 | 分享到:

01 氧化


问题来源:1、原水自带的氧化性物质,2、预处理杀菌投加的氧化剂或紫外灯运行产生的氧化性物质


特征:氧化会导致树脂破碎堵塞流道,使系统出力逐渐下降(压差上升或流量下降),且化学清洗无效,可能会使产水水质下降,过程时间较长。


源洋水处理设备


措施:一级RO进水处投加还原剂,控制进水ORP≤200mv为宜。EDI进水侧不能安装紫外线杀菌装置。


平时需做好数据记录,如发现性能持续下降应及时处理或反馈(因为仪表有准度问题,不能完全依赖ORP)。


每天应至少记录下述参数一次


源洋水处理设备


以下参数应每星期至少记录一次

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02 缺水烧毁


问题来源:EDI通过电来迁移离子,其过程会产生一定的热量,如缺水通电会导致模块局部过热烧毁


特征:EDI电流电压明显异常或无法上电,通常水质会下降,过程时间很短。


源洋水处理设备


措施:避免EDI在缺水情况下通电,淡水、浓水、极水都应设置流量保护及报警,没有设置自动保护的则需要人工做好阀门检查及流量确认。


PS:不合格产排管道需与产水一样受调节阀控制流量,否则产排时可能导致浓水与极水流量下降造成隐患。


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03 模块污堵


①结垢或有机物污堵


问题来源:进水水质波动,RO膜脱盐率下降或未采用二级RO工艺;长期停机细菌滋生


特征:会逐渐使模块出力降低,很可能使产水水质下降,通常化学清洗有效


措施:及时进行化学清洗,定期分析进水水质及RO膜是否需要更换;长期停机应定期通新鲜水防止长菌。


PS:判断EDI系统是否污堵需从压力及流量两方面综合考虑,例如产水恒流系统中流量虽无变化,压差及进水压力明显上升即提示污堵


②进水侧物理污堵


问题来源:新系统安装前未对进水管路冲洗


特征:投运后短时间内EDI出力下降,产水水质通常无明显下降


措施:对问题模块进行反冲洗,反冲洗压力不宜高于0.2MPa,冲洗水水质需满足


04 EDI进水要求质、系统出力、电流电压正常,产水水质不达标


①正负极接反


特征:接反的模块通电后产水电导比进水电导高很多,不通电产水水质反而更好,电流电压显示正常。


措施:检测电源正负极,调整接线


电源接头接线方式:1地 2正 3负


源洋水处理设备


②压力设置不合理


E-CELL模块在调试时需要设置浓水进比淡水出压力低0.35-0.7bar,以实现全过程淡水压力>浓水压力


源洋水处理设备


无法设置的情况:浓水管径太小或水泵扬程太低,为保证浓水流量而无法降低浓水进水压力至合适值。


措施:推荐EDI淡水进水压力要达到4bar,并选择适宜的管径


③二氧化碳的影响


EDI进水PH需7-7.5,如偏酸可能会有少量二氧化碳气体无法去除,经过EDI后会生成碳酸氢根离子影响水质。


源洋水处理设备


措施:二级RO加碱将PH提升至8-9,二氧化碳反应成为离子从而被RO膜及EDI去除


PS:二氧化碳是相对易溶的气体,雨水在下落过程中会吸收二氧化碳至PH≈5.6,因此在一级RO产水加装除碳器可能效果并不理想。


④需加强电流再生


EDI经过清洗、长期停机或者一段时间通水不通电运行后都可能需要加强电流再生


措施:保证好流量正常的情况下将电流提高至3-4A运行,水质恢复后再逐渐降低电流



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